光刻胶产业化再度传出利好。
据东湖国度自主改革示范区官网当天(10月15日)讯息,近日武汉太紫微光电科技有限公司(下称“太紫微公司”)推出的T150 A-光刻胶居品,已通过半导体工艺量产考据,达成配方全自主贪图。
该居品“对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于国际同系列居品UV1610,T150 A在光刻工艺中阐扬出的极限分辨率达120nm,且工艺宽宏度更大,褂讪性更高,坚膜后烘留膜率优秀,其对后说念刻蚀工艺阐扬更为友好,通过考据发现T150 A中密集图形历程刻蚀,基层介质的侧壁垂直度阐扬优异”。
据悉,太紫微公司由华中科技大学武汉光电国度谈判中心团队创立。该团队容身于关键光刻胶底层技巧研发,在电子化学品界限深耕二十余载。武汉光电国度谈判中心是科技部于2017年批准建造的第一批,亦然唯独的一批6个国度谈判中心之一,其前身为2003年获批的武汉光电国度践诺室(筹)。
值得把稳的是,天眼查信息显现,太紫微公司树立于2024年5月31日,注册本钱200万元,实控东说念主为朱明强,最终受益股份77%。
除了朱明强本东说念主外,太紫微公司的另外两家激动,湖北高碳光电科技有限公司、武汉市马斯洛普贬责询查结伴企业,朱明强则分手执股100%和8%。
华中大学官网府上显现,朱明强为华中科技大学武汉光电国度谈判中心二级教训,光学与电子信息学院双聘教训。主要谈判界限为有机及纳米光电子学,谈判地点包括围聚于光刻制造、有机纳米光电子学和超分辨率成像。
▌太紫微公司的KrF光刻胶居品,是什么水平?
一位光刻胶厂商东说念主士向《科创板日报》记者示意,国产对标国际厂商UV1610居品的光刻胶量产确乎是个好讯息。
不外,在KrF系列光刻胶居品中,T150 A对标的UV1610居品算是“很常用的胶”,门槛不算高,但由于常用是以需求量会比拟大。UV1610居品北京科华、徐州博康等国内厂商齐有智力坐褥。
从阛阓竞争情况来看,“UV1610这一款居品,实质留给其他厂商的阛阓空间并未几。”据上述东说念主士称,刻下北京科华径直代理了UV1610的原厂,主要为原厂提供代工,其他厂商“玩不了”。而徐州博康主打配方和坐褥“寰球产”,有智力作念UV1610,场外配资不外刻下要点更多放在BARC(底部抗反射涂层)居品上。
其进一步指出,太紫微光称其居品已通过半导体工艺量产考据,并达成配方全自主贪图,但最终顺利依然要看阛阓与客户的响应。据先容,光刻胶居品在客户端考据周期经常需要2年。
▌国产光刻胶走到了哪一步?
刻下,我国半导体光刻胶国产化率仍处于较低水平。数据显现,其中KrF、ArF光刻胶对外依赖最为严重,国产化率均仅在1%水平。
西部证券指出,我国半导体光刻胶阛阓超90%主要依赖入口,原土厂商虽起步较晚,但刻下处于国产化加快期。彤程新材、华懋科技、晶瑞电材、上海新阳等国内公司均有G/I线、KrF、ArF胶布局,开发重点为普适性光刻胶和技巧难度较低的练习制程光刻胶,使居品导入后能大范围讹诈,在居品开发和考据上执续与卑鄙晶圆厂进行积极互助。
据《科创板日报》乌有足统计,国内已有多家公司有KrF光刻胶居品布局:
上海新阳称,KrF光刻胶已有销售,销量迟缓加多,合肥工场刻下在试坐褥阶段;晶瑞电材多款KrF光刻胶已量产并供应多家半导体客户。
另外,鼎龙股份称已开发出7款KrF光刻胶居品,包括1款能达到KrF极限分辨率120nm L/S 和130nm Hole的光刻胶;八亿时空上海半导体式样已凯旋达成KrF光刻胶用PHS树脂百公斤级别的量产;飞凯材料光致抗蚀剂居品包括讹诈于半导体界限的i-line及KrF光刻配套Barc材料。
“从根柢上来说,国产光刻胶的上游原材料依然要依靠入口,需要防碍的是配方,刻下国产的光刻胶原材料配方褂讪性等较国际有差距。”还有光刻胶从业者向《科创板日报》记者示意,“除了原材料配方以外的技巧界限的防碍,难度并不算大。”
有新材料界限产业基金投资东说念主士分析以为,“从细分维度来看,原材料、配方这两约莫素较为关键。像降本、防碍性能主意,匹配下搭客户等需要依靠这两部分达成防碍。在此基础上,再是坐褥工艺、开拓等方面防碍,这些会对降本等产生径直影响。”
另有新材料界限投资东说念主士执有相通不雅点并示意,国内当今主要谈判的是光刻胶原材料配方。“相较于技巧防碍,更值得心绪的是这家公司(太紫微公司)使用的主料、辅料齐是那里采购的。刻下,国内企业在光刻胶原材料方面存在一定的入口依赖,国内有关光刻胶原材料基本齐从日本入口。不扼杀开释这种讯息(小K注:指太紫微公司光刻胶居品通过半导体工艺量产考据),是为企业造势的可能。”
对于太紫微公司T150 A居品的客户端考据进展,以及后续居品系列的研发权术,《科创板日报》记者尝试通过电子邮件与朱明强得到干系,但铁心发稿未获复兴。